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等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应，分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米，处理深度为0.3-1.5纳米。抛光物的表面粗糙度在1mm范围内，因此等离子纳米抛光处理可以化学活化工件表面，去除表面分子污染层，交叉链接表面在化学物质。等离子也称为物质的第四态，是一种电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下，抛光剂水溶，但是在高温高压下，电子会脱离原子核而跑出来，原子核就形成了一个带正点的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子和要抛光的物体摩擦时，顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。

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粗抛的目的是去除工件表面较大的披锋、毛刺和刮伤等，这一阶段应具有大的抛光速率，粗抛形成的表层损伤是次要的考虑，不过也应当尽可能小。抛光机抛光时，试样磨面与抛光盘应相对对平行并均匀地轻压在抛光盘上，注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。抛光技术是金属表面处理的关键技术之一，抛光无论是在传统产业还是在电子数码产业中是不可或缺的生产步骤。

抛光设备的能耗都很大、因为它都是靠电能来达到抛光的目的、有没有让它的能耗降低呢？其实还是有的、大概有两点做到位、也是可以降低能耗的，一个是持具，设计尽量符合产品与设备几可的数量 即可，不要空很多持钩在上面，因为持钩课露出来的钢丝也会耗电、尽量让括钩露出的部分越少、又能挂紧产品为准，另外就是抛光液的水温、抛光液的温度对于电流影响很大、水温越接近沸腾、电流越小；水温度、电流就会升高一部分。八溢自动化设备有限公司生产的抛光设备都是围绕着这个原则来设计挂具的。

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